磁控溅射阴极靶

对于大多数磁控镀膜设备特别是平面磁控溅射靶，由于正交电磁场对溅射离子的作用关系，将其约束在闭合磁力线中，使得溅射靶材在溅射中产生不均匀冲蚀现象，一旦靶材刻蚀穿，靶材即报废，进而造成靶材的利用率一直较低，一般是30%以下。

靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，我司为国内外知名企业供应改进靶材，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性、降低镀膜成本。

从磁控溅射镀膜技术诞生以来，人们主要关注磁控溅射的问题是：靶材的利用率、沉积效率、薄膜均匀性、镀膜过程中的稳定性以及满足各种复杂的镀膜要求等问题。

我司还为国内外多加知名企业定制生产维修靶材，大大节约维修成本，找我们定制开发18116371916（微信同号）