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    靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，我司为国内外知名企业供应改进靶材，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性、降低镀膜成本

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      靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，我司为国内外知名企业供应改进靶材，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性、降低镀膜成本。

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